Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

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Onclin, Steffen and Ravoo, Bart Jan and Reinhoudt, David N. (2005) Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten. Angewandte Chemie, 117 (39). pp. 6438-6462. ISSN 0044-8249

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Abstract:Nur wenige Nanometer dicke molekulare Monoschichten können die Eigenschaften von Oberflächen vollkommen verändern. Die Herstellung dieser molekularen Monoschichten kann leicht durch die Langmuir-Blodgett-Methode oder durch chemische Adsorption (Chemisorption) an Metall- und Oxidoberflächen erfolgen. Dieser Aufsatz konzentriert sich auf chemisorbierte selbstorganisierte Monoschichten (SAMs) als Plattformen für die Funktionalisierung von Siliciumoxidoberflächen. Die Organisation von Molekülen und molekularen Aufbauten auf Siliciumoxid wird in der "Bottom-Up"-Nanofabrikation einen außerordentlichen Platz einnehmen und könnte Gebiete wie die Nanoelektronik und die Biotechnologie in naher Zukunft revolutionieren. In den letzten Jahren wurden selbstorganisierte Monoschichten auf Siliciumoxid so weit entwickelt und mit verschiedenen lithographischen Methoden kombiniert, dass neue Nanofabrikationsstrategien und biologische Arrays entwickelt werden können. Will man Fortschritte auf dem Weg von der Bildung zweidimensionaler Muster hin zur dreidimensionalen Fabrikation erzielen, ist die Kontrolle von Oberflächeneigenschaften im Nanometerbereich von größter Bedeutung.
Item Type:Article
Copyright:© 2005 Wiley InterScience
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Official URL:http://dx.doi.org/10.1002/ange.200500633
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